BIOMIMETIKA – LÓTUSZ-EFFEKTUS

Slides:



Advertisements
Hasonló előadás
Öntisztuló felületek Tőkés Réka XII. A Bolyai Farkas Elméleti Líceum
Advertisements

Szilícium plazmamarása Készítette: László SándorBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Tanára:Szász ÁgotaBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely.
A monolit technika alaplépései
Vékonyréteg Si napelemek, technológia fejlesztési irányok.
Rétegmegmunkálás marással
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei
MOS integrált áramkörök alkatelemei
A ZÖLDFELÜLETI RENDSZER ÉS ELEMEI TÁJVÉDELMI SZEMPONTBÓL
Bányácski Sándor mezőgazdasági mérnök szak IV. évfolyam
STM nanolitográfia Készítette: VARGA Márton,
BIOMIMETIKA – LÓTUSZ-EFFEKTUS
Szén erősítésű kerámia kompozitok és grafit nanoréteg előállítása
Ismerkedés a mikropellisztor típusú gázérzékelőkkel
Nanorészecskék és nanorészecskés bevonatok készítése Készítette: Benedek Ádám Mentor: Fülöp Eszter MFA Nyári Iskola 2010.
Nanorészecskés bevonatok Pósa Vivien, Bolyai Tehetséggondozó Gimn., Zenta Berekméri Evelin, Bolyai Farkas Elm. Lic., Marosvásárhely MFA Nyári Iskola 2013.
1 Pórusos szilícium struktúra kialakítása Bedics Gábor Ciszterci Rend Nagy Lajos Gimnáziuma, Pécs.
1 Mikrofluidika Atomi rétegleválasztás (ALD) Készítette: Szemenyei F. Orsolya Témavezető: Baji Zsófia
VOLFRÁM-OXID NANOSZÁLAK VIZSGÁLATA ÉS ELŐÁLLÍTÁSA ELECTROSPINNINGEL MFA NYÁRI ISKOLA 2010 BALÁSI SZABOLCS JÚNIUS 25.
Mérések ellipszométerrel - Fehérjerétegek vizsgálata
Gázérzékelők, mikro méretű eszközök kutatása és fejlesztése
1 Mikrofluidika DIGITÁLIS és FOLYTONOS MIKROFLUIDIKA Szuperhidrofób felületek kialakítása és Áramlási folyamatok vizsgálata mikrorendszerekben (keveredés.
Volfrám-oxid nanoszálak előállítása elektrospinninggel
Elektronikus Eszközök Tanszék
(Mikrokalorimetria) q: immerziós hő
(Mikrokalorimetria) q: immerziós hő
Pfeifer Judit és Arató Péter
A FAUVOK nyomában Témahét: 2010.
MFA Nyári Iskola június Nickl István – 1 1 Mikroelektronikai szeletkötés kialakítása és vizsgálata MTA MFA Mentor: Dr.
NAGYFELBONTÁSÚ ELEKTRONMIKROSZKÓPIA és a JEMS SZIMULÁCIÓS PROGRAM Készítette:Gál Réka, g g g g g ____ rrrr eeee kkkk aaaa yyyy aaaa hhhh oooo oooo....
MFA Nyári Iskola június Ádám Andrea 1 FOTÓLITOGRÁFIA Ádám Andrea Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők: Vázsonyi Éva,
Ezüst szemcsék vizsgálata TEM-mel
Rendezett cink-oxid nanorudak Készítette: Harmat Zita, Kodály Zoltán Magyar Kórusiskola – Budapest Mentorok: Erdélyi.
Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza)
Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet ● Magyar Tudományos Akadémia MFA Nyári Iskola ● Csillebérc (Bp) június 27.- július 1. ● „Tanuljunk.
Témavezető: Bíró Ferenc
Optikai rács kialakítása holográfiával
Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással
Mikroelektronikai szeletkötések kialakítása és vizsgálata
Mikroelektronikai szeletkötések Nyári Iskola Készítette: Kovács Noémi Mentor: Kárpáti Tamás 2010.
NAGYFELBONTÁSÚ ELEKTRONMIKROSZKÓPIA és a JEMS SZIMULÁCIÓS PROGRAM
Nagyfelbontású transzmissziós elektronmikroszkópia
MFA Nyári Iskola június Horváth András Zoltán 1 MIKROFLUIDIKA Horváth András Zoltán Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők:
Szerkezeti színek a természetben Témavezető: Kertész Krisztián.
ZnO réteg adalékolása napelemkontaktus céljára
Kártyás Bálint MFA nyári iskola Puskás Tivadar Távközlési Technikum
Hősugárzás vizsgálata integrált termoelemmel
Hidroxiapatit alapú biokompatibilis nanokompozitok előállítása
Rendezett ZnO nanorudak előállítása és vizsgálata Rendezett ZnO nanorudak előállítása és vizsgálata Készítette: Horváth Balázs Batthyány Lajos Gimnázium,
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei Elektronika I. BME Elektronikus Eszközök Tanszéke Mizsei János 2004.március.
Maszkkészítés Planár technológia Kvázi-sík felületen
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Monolit technika MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Mikroelektronikába: technológiai eljárások
Fehérjerétegek leválasztása és vizsgálata Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Kutatóintézet (MTA-MFA), Budapest Lovassy László Gimnázium, Veszprém Janosov.
A főzőedénytől a nanoméretű eszközig: lépések a nanoszál alapú bioszenzor megvalósítása felé Szemes Gábor Bence Garay János Gimnázium, Szekszárd MTA-MFA.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 11.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 10.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Nanofizika, nanotechnológia és anyagtudomány
Elektronikus Eszközök Tanszék 1999 INTEGRÁLT MIKRORENDSZEREK MEMS = Micro- Electro- Mechanical Systems.
7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás.
a laboratórium egy chipen?
Nagyfeloldású Mikroszkópia Dr. Szabó István 9. Litográfia TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI projekttel összefüggő.
Nanotechnológiai kísérletek
Bioinert titán-karbid/amorf szén és biopolimer-HAp-bevonat fejlesztése
Bioinert titán-karbid/amorf szén és biopolimer-HAp-bevonat fejlesztése
Fotonikus kristályok előállítása és vizsgálata
a laboratórium egy chipen?
NANOMECHANIKAI KÍSÉRLETEK
MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Előadás másolata:

BIOMIMETIKA – LÓTUSZ-EFFEKTUS szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással Beke Lilla Fazekas Mihály Gimnázium, Debrecen Témavezetők: Fürjes Péter, Fekete Zoltán, Holczer Eszter

BIOMIMETIKA Alkalmazás Öntisztuló ablaküveg, szélvédő, napelem A természetben előforduló struktúrák tanulmányozásával, lemásolásával foglalkozó tudományág LÓTUSZ-EFFEKTUS A levélen a víz gömbölyű cseppeket alkot, amelyek könnyen legördülnek róla Oka: a leveleken szabálytalan oszlopocskák találhatók amiket egy viaszos réteg borít. Alkalmazás Öntisztuló ablaküveg, szélvédő, napelem Két egyensúlyi állapot: Lótuszlevél: a, SEM képe; b, SEM kép nagyobb nagyítással; c, vízcsepp lótuszlevélen Csepp a: Cassie állapotban; b, Wenzel állapotban

MESTERSÉGES MEGVALÓSÍTÁS Mikrotechnológia, MEMS technológia litográfia 3D marás Anizotróp marások: Marás sebessége irányfüggő KOH, NaOH - lúgos marószerek DRIE – Mély Reaktív Ionmarás

MESTERSÉGES MEGVALÓSÍTÁS Maszk Fotoreziszt (kb. 2mm vastag) SiO2 (kb. 1mm vastag) Szilícium hordozó Előhívás + oxidmarás Szilícium anizotróp marása: 1. KOH 2. NaOH + hipó 3. DRIE KOH NaOH + hipó v. DRIE

KIALAKULT STRUKTÚRÁK NaOH + hipó egyenes állású maszk Fénymikroszkópos kép Elektronmikroszkópos kép KIALAKULT STRUKTÚRÁK NaOH + hipó egyenes állású maszk 45o-kal orientált maszk DRIE

HIDROFÓB RÉTEG FELVITELE DRIE-ben: Plazma-polimerizált fluorokarbon Teflonszerű bevonat Vízcsepp kontaktszöge natív oxiddal borított szilíciumon (bal) és teflonnal borított sík szilíciumon (jobb)

SZUPERHIDROFÓB? 3D strukturálás: NaOH + hipó: vízcsepp alakja a teflonnal borított nyolcszögletű oszlopokon vízcsepp alakja a teflonnal borított négyzetes oszlopokon

SZUPERHIDROFÓB? 3D strukturálás: DRIE A kontaktszögek az oszloptávolságok függvényében: Oszlopfelület: 25x25mm2 A legnagyobb elért kontaktszög ~170o SZUPERHIDROFÓB! Átmenet a Cassie állapotból a Wenzel állapotba

Köszönöm a MEMS Labor minden dolgozójának segítőkészségét! Köszönöm a figyelmet! Köszönöm a MEMS Labor minden dolgozójának segítőkészségét!