Nanotechnológiai kísérletek Lévay Mátyás Udvardi Péter
Technológia Elektronsugaras litográfia 20nm-es pontosság Viszonylag gyors eljárás
Alumínium réteg leválasztása Lépései Tervezés Resist felvitele Expozíció Hordozó előkészítése Lift-off Alumínium réteg leválasztása Előhívás Kész
50µm×120µm méretű MFA felirat Eredmény 50µm×120µm méretű MFA felirat
Mérések, ellenőrzés Optikai mikroszkóp Pásztázó elektronmikroszkóp Atomi erő mikroszkóp (AFM)
Optikai mikroszkópos képek Visszavert fénnyel Átmenő fénnyel
Pásztázó elektronmikroszkópos képek
AFM-es képek
Köszönjük a figyelmet és mentorainknak a segítséget! Dr. Lukács István Dr. Volk János