Cim Design flow, production flow, maszkok, technológia Tervezési szabályok, lambda. Pálcika diagram, alap layoutok1Fa03.27 P Layout tervezés, P&R1Fa03.30.

Az előadások a következő témára: "Cim Design flow, production flow, maszkok, technológia Tervezési szabályok, lambda. Pálcika diagram, alap layoutok1Fa03.27 P Layout tervezés, P&R1Fa03.30."— Előadás másolata:

1 Cim Design flow, production flow, maszkok, technológia Tervezési szabályok, lambda. Pálcika diagram, alap layoutok1Fa03.27 P Layout tervezés, P&R1Fa03.30 H Layout reprezentáció és kezelés, DRC, Ext, LVS1Re04.03 P

2

3

4 Inverter layout

5 Proc1

6 Proc2

7 1

8 2

9 LOCOS Így nem

10 LOCOS

11 3

12 4 Etch thin oxide

13 4

14 4

15 5 p

16 6

17 7

18 Inv keresztmetszet

19

20 5 Mask 1 Mask 2

21 4 Mask 3

22 3 Mask 4

23 2 Mask 5

24 1 Mask 6

25 Mask 7

26

27

28 CMOS gate array

29 NOR A B Y VDD VSS

30 A B VDD VSS NAND Y

31 A VDD VSS Inverter Y

32 1 réteges szabályok Aktív PoliSi Fém Kontaktus

33 2 réteges szabályok Kontaktus Tranzisztor