7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás.

Az előadások a következő témára: "7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás."— Előadás másolata:

1 7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás.
A félvezető technológiában a rétegek mintázatát általában szubtraktív eljárással készítik: a teljes felületet réteggel vonják be, majd fotolitográfia és maratás kombinációjával a nem kívánt helyekről a réteget eltávolítják. A rétegeltávolítás módszerei a nedves és száraz maratási eljárások. Szilícium izotróp és anizotróp maratása: Az egykristályos szilícium anizotróp módon is maratható. Ezáltal szabályos és pontos geometriai alakzatok, mechanikai szerkezetek készíthetők. Ezeket a tömbi és felületi mikromechanika alkalmazza. Egyes mikromechanikai szerkezetek kialakításához ideiglenes, u.n. áldozati rétegek szükségesek.

2 SiO2 oxidmaszk készítése fotolitográfiával
Fotoreziszt SiO2 Fényzáró mintázat Fotomaszk 1. Oxidnövesztés (rétegkészítés) 2. Fotoreziszt felvitel UV fény 3. Megvilágítás 5. Oxidmaratás 6. Fotoreziszt eltávolítás 4. Előhívás SiO2 maszk

3 Fotolitográfiai maszkolási elvek, maszk-generálás
Kontakt maszk Távoli maszk Kontakt maszkolás: kisebb az alávilágítás, ezért pontosabb Távoli maszkolás: a réteg és a maszk nem érintkezik, egyik sem sérül meg Fotomaszk készítése ábragenerátorral

4 fotoreziszt vákuum hordozó levegő maszk Látható fény Elektronsugár Ionsugár Röntgensugár Különböző sugárfajták össze- hasonlítása litográfiai alkalmazás szem- pontjából

5 Elektron- sugaras litográfiai berendezés működési elve
Számítógép Interfész áramkörök Sugár ki/be kapcsolás Elektronforrás Elektromágneses sugáreltérítés Elektrondetektor X-Y asztal Helyzet vissza- csatolás Elektron- sugaras litográfiai berendezés működési elve

6 Nedves maratáshoz használt maratószerek
Szilícium (Si) maratószerei: Izotróp maratáshoz 3 ml HF + 5 ml HNO3 + 3 ml CH3COOH (fluorsav + salétromsav + ecetsav) vizes oldata Anizotróp maratáshoz KOH (kálium-hidroxid) vizes oldata SiO2 oxidmaró: 28 ml HF g NH4F ml víz (+ esetleg HNO3) Alumínium (Al) (huzalozási célú fémezés) maratószerei: NaOH (nátriumhidroxid) vizes oldata HCl (sósav) vizes oldata H3PO4 + HNO3 (foszforsav + salétromsav) vizes oldata Arany (Au) (huzalozási célú fémezés) maratószerei: Királyvíz: 1 rész konc. HCl + 3 rész konc. HNO3 Jodidos marató: 400 g KI g I ml víz Nikkel-króm (Ni-Cr) (ellenállásréteg) marószere: CeIV(SO4)2 + HNO3 (cérium(IV) szulfát + salétromsav) + víz