Készítette: Földváry Árpád

Slides:



Advertisements
Hasonló előadás
Projektmenedzsment elmélet és/vagy gyakorlat
Advertisements

Vékonyrétegek előállítása fizikai módszerekkel (PVD)
SZILÁRD ANYAGOK SZÁLLÍTÁSA
Szilícium plazmamarása Készítette: László SándorBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Tanára:Szász ÁgotaBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely.
Nanométeres oxidáció gyors hőkezeléssel
A monolit technika alaplépései
Helyettesítési reakció
Sugárzás kölcsönhatása az anyaggal Készítette: Fehértói Judit (Z0S8CG)
SO 2, NO x felbontási hatásfokának vizsgálata korona kisülésben Horváth Miklós – Kiss Endre.
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei
2. gyakorlat Készítette: Földváry Árpád
MOS integrált áramkörök alkatelemei
MIKROÁRAMKÖRI TECHNOLÓGIÁK
VLSI áramkörök Gyártástechnológiai újítások Készítette: Borbíró Péter Czett Andor.
Az integrált áramkörök (IC-k) gyártása
Az integrált áramkörök (IC-k) gyártása
Dr. Mizsei János előadásai alapján készítette Balotai Péter
Napelemgyárral kapcsolatos kérdések Készült az Elektronikus Eszközök Tanszékén, június 8.
Vékonyfilm nm körüli vastagság ultravékonyfilm - 1 nm körüli vastagság CVD (chemical vapour deposition) kémiai gőz leválasztás LPD (laser photo-deposition)
AZ ÉGHAJLAT ÁBRÁZOLÁSA
Felület kezelés, felület nemesítés
VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL
1 Mikrofluidika Atomi rétegleválasztás (ALD) Készítette: Szemenyei F. Orsolya Témavezető: Baji Zsófia
1 Mikrofluidika DIGITÁLIS és FOLYTONOS MIKROFLUIDIKA Szuperhidrofób felületek kialakítása és Áramlási folyamatok vizsgálata mikrorendszerekben (keveredés.
Mikroelektronikaéstechnológia Bevezetõ elõadás Villamosmérnöki Szak, III. Évfolyam.
Dr. Nagy Géza Csóka Balázs PTE TTK Általános és Fizikai Kémia Tanszék
Villamos kisülések alkalmazása a környezetvédelemben VII. Környezetvédelmi Konferencia-Dunaújváros Kiss Endre, Horváth Miklós, Jenei István, Hajós Gábor,
MFA Nyári Iskola június Ádám Andrea 1 FOTÓLITOGRÁFIA Ádám Andrea Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők: Vázsonyi Éva,
Rendezett cink-oxid nanorudak Készítette: Harmat Zita, Kodály Zoltán Magyar Kórusiskola – Budapest Mentorok: Erdélyi.
Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza)
ZnO réteg adalékolása napelemkontaktus céljára
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei Elektronika I. BME Elektronikus Eszközök Tanszéke Mizsei János 2004.március.
Maszkkészítés Planár technológia Kvázi-sík felületen
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Bipoláris technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Monolit technika MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Kémiai leválasztás gőzfázisból (CVD) Mizsei János 2013.
Mikroelektronikába: technológiai eljárások
A diák(ok)hoz Ez a diasorozat a 2010-es ET diákból készült. A honlapon lévő 18 diasorból az első 14 diát tartalmazza. Minden lényeges dolgot tartalmaz*,
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 11.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 10.
Optomechatronika II. Vékonyrétegek - bevonatok
Optomechatronika II. Vékonyrétegek - bevonatok
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A pn átmenet működése: Sztatikus.
Ipari vékonyrétegek Lovics Riku Phd. hallgató.
Fotonika Vékonyrétegek - bevonatok
Tömegspektrometria (MS) gyakorlat Bevezető előadás: Dr. Balla József
Egykristályok előállítása
7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás.
VÁKUUMTECHNIKAI LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK Bohátka Sándor és Langer Gábor 11. CSIGAVONALAS (SCROLL) SZIVATTYÚ TISZTÍTÁSA TÁMOP C-12/1/KONV
VÁKUUMTECHNIKA GYAKORLATI ALAPJAI Bohátka Sándor és Langer Gábor 9. Szivattyúk TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI.
VÁKUUMTECHNIKA Bohátka Sándor és Langer Gábor 15. ÖNELLENŐRZŐ KÉRDÉSEK TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI projekttel.
VÁKUUMTECHNIKAI ALAPISMERETEK Bohátka Sándor és Langer Gábor 8. LYUKKERESÉS TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI.
Nagyfeloldású Mikroszkópia Dr. Szabó István 9. Litográfia TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI projekttel összefüggő.
VÁKUUMTECHNIKA GYAKORLATI ALAPJAI Bohátka Sándor és Langer Gábor 12 ÓRÁS KURZUS TANANYAGA KÉPZŐK KÉPZÉSÉRE TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati.
VÁKUUMTECHNIKAI LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK Bohátka Sándor és Langer Gábor 2. PIRANI VÁKUUMMÉRŐ MEGISMERÉSE, BEÁLLÍTÁSA, MŰKÖDTETÉSE TÁMOP C-12/1/KONV
VÁKUUMTECHNIKAI LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK Bohátka Sándor és Langer Gábor 10. VÁKUUMRENDSZER TERVEZÉSE ÉS ÖSSZEÁLLÍTÁSA MEGADOTT KÖVETELMÉNYEK ALAPJÁN,
VÁKUUMTECHNIKAI LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK Bohátka Sándor és Langer Gábor 12. NYOMÁSMÉRÉS EGY FORGÓLAPÁTOS SZIVATTYÚVAL SZÍVOTT CSŐ KÉT VÉGÉN KÜLÖNBÖZŐ.
VÁKUUMTECHNIKA GYAKORLATI ALAPJAI Bohátka Sándor és Langer Gábor 8. LYUKKERESÉS TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai.
VÁKUUMTECHNIKAI LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK
VÁKUUMTECHNIKAI ALAPISMERETEK Bohátka Sándor és Langer Gábor
LABORATÓRIUMI GYAKORLATOK Bohátka Sándor és Langer Gábor
Nanotechnológiai kísérletek
Az elektrolízis.
Bohátka Sándor és Langer Gábor
MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Méréstechnika 1/15. ML osztály részére 2017.
Szivattyúk fajtái 1. Dugattyús szivattyú - nem egyenletesen szállít,
Előadás másolata:

Készítette: Földváry Árpád e-mail: foldvary@eet.bme.hu 3. gyakorlat Készítette: Földváry Árpád e-mail: foldvary@eet.bme.hu

Litográfia Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Negatív litográfia Negatív lakk: A szeleten kialakuló ábra ellentétes a maszk ábrával. - Ott oldható a lakk, ahol nem lett megvilágítva. UV fény Ábra a maszkon Előhívás után megmaradt lakk Megvilágított terület a lakkon Ablak Si szelet Lakk Oxid Árnyékolt terület a lakkon Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Pozitív litográfia Pozitív lakk: A szeleten kialakuló ábra megegyezik a maszk ábrával. - Ott oldható a lakk, ahol meg lett világítva. UV fény Előhívás után megmaradt lakk Ábra a maszk Árnyékolt terület a lakkon Ablak Si szelet Lakk Oxid photoresist silicon substrate oxide Megvilágított terület a lakkon Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Fotolitográfia lépései UV fény Maszk  4) Pozícionálás, megvilágítás 1) Nedvesség eltávolítása Lakk 2) Lakk felcentrifugálása 3) Beszárítás 6) Beégetés 5) Előhívás 7) Előhívás ellenőrzése Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Lakkfelvitel eszközei Y X q 4 dimenzióban mozgatható fúvóka Lakk adagoló fúvóka Lakk áramlás Áramló levegő Szelet Rozsdamentes acél tál Vákuumos szelettartó Megfolyt hátoldali lakk eltávolítás (EBR) Levegő elszívás Maradék lakk elvezetése Motor Vákuum Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Fotolitográfiai gyártósor Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Vákuumtechnika Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Vákuumrendszer általános felépítése Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Elővákuum létrehozása: Forgólapátos szivattyú Szívási sebesség 1-300m3/óra Végvákuum: - 0,1mbar (egyfokozatú) - 0,001 mbar (kétfokozatú) Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Elővákuum mérése: Termopár Mérési elv a hővezetésen alapul Méréshatár: 0,001mbar Szál elkoszolódhat, kiéghet Lassú Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Elővákuum mérése: Pirani mérő Legelterjedtebb Méréshatár: 2-0,001mbar Gyors W szál elkoszolódhat, kiéghet Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum létrehozása: Diffúziós szivattyú Nagyon elterjedt Egyszerű felépítés Könnyen tisztítható, javítható Szívási sebesség mérettől függ: 100-10000 l/s Végvákuum: ~10-8 mbar Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum létrehozása: Diffúziós szivattyú Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum létrehozása: Turbómolekuláris szivattyú Nagyon elterjedt Szívási sebesség mérettől függ: 50-3500 l/s Végvákuum: ~10-10 mbar Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum mérése: ionizációs vákuummérő Széles mérési tartomány: 10-2 – 10-10 mbar Egyszerű Kiéghet a fűtött katód Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum mérése: ionizációs vákuum mérő Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Nagyvákuum mérése: Penning vákuummérő Nincs fűtött katód, nem éghet ki Kisebb pontosság Mérési tartomány: ~10-8 mbar-ig Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Fémréteg leválasztási módszerek Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

CVD (Chemical Vapor Deposition) 1) Reagens felhő CVD reaktor Gáz befújás 7) Melléktermékek deszorpciója 8) Melléktermék eltávolítás 2) Előreakciók Melléktermék Elszívás 3) Gáz molekulák diffúziója 5) A vegyület bediffundál a hordozóba 6) Felületi reakciók Vékony réteg 4) Vegyület abszorpciója Hordozó Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) Három zónás fűtés Nyomás mérő Kifújás a vákuum szivattyúhoz Gáz bemenet Termoelemek Termoelemek Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Katódporlasztás Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Vákuumgőzölés Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Vákuumgőzölés módjai A gőzölés történhet: Huzalról Tégelyből Csónakból Elektron sugárral A tartó anyaga lehet: Wolfram (W), Bór-nitrid (BN) Tantál (Ta), Molibdén (Mo). Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Elektronsugaras gőzölés http://www.ett.bme.hu/vlab/start.html Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Vákuumgőzölő Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Rezgőkvarcos rétegvastagság mérő Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Kontaktusréteg kialakítása Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Kontaktus réteg a, szitanyomtatással felvitt vezető réteg b, lézerbevágásos, eltemetett kontaktus kémiai fémréteg leválasztással Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Szitanyomtatással felvitt vezetőréteg Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat

Eltemetett vezetőréteg Földváry Árpád Napelemek - 3. gyakorlat