Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással

Slides:



Advertisements
Hasonló előadás
Természet Szöveg: ©Rába Ildikó Mariann Kép: ©Bauer Andrea.
Advertisements

Fotó: Fenyősi László. Fotó: Fenyősi László Fotó: Fenyősi László.
Öntisztuló felületek Tőkés Réka XII. A Bolyai Farkas Elméleti Líceum
Szilícium plazmamarása Készítette: László SándorBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely Tanára:Szász ÁgotaBolyai Farkas Elméleti Líceum Marosvásárhely.
Nanométeres oxidáció gyors hőkezeléssel
A monolit technika alaplépései
Vékonyréteg Si napelemek, technológia fejlesztési irányok.
Hősugárzás Gépszerkezettan és Mechanika Tanszék.
Rekonstrukció bizonytalan vetületekből
Scherübl Zoltán Nanofizika Szeminárium - JC Okt 18. BME.
Elektrokémiai és árammentes rétegfelviteli eljárások
Folyadékkristályos kijelzők: Folyadékkristály rétegek
Rétegmegmunkálás marással
Holografikus adattárolásban alkalmazott fázismodulált adatlapok kódolása kettőstörő kristály segítségével Sarkadi Tamás 5.évf. mérnök-fizikus hallgató.
Dr. Mizsei János előadásai alapján készítette Balotai Péter
Hősugárzás.
Elképesztő csíkos jéghegyek.
Elképesztő csíkos jéghegyek.
VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL
BIOMIMETIKA – LÓTUSZ-EFFEKTUS
Szén erősítésű kerámia kompozitok és grafit nanoréteg előállítása
Ismerkedés a mikropellisztor típusú gázérzékelőkkel
1 Pórusos szilícium struktúra kialakítása Bedics Gábor Ciszterci Rend Nagy Lajos Gimnáziuma, Pécs.
1 Mikrofluidika Atomi rétegleválasztás (ALD) Készítette: Szemenyei F. Orsolya Témavezető: Baji Zsófia
Gázérzékelők, mikro méretű eszközök kutatása és fejlesztése
1 Mikrofluidika DIGITÁLIS és FOLYTONOS MIKROFLUIDIKA Szuperhidrofób felületek kialakítása és Áramlási folyamatok vizsgálata mikrorendszerekben (keveredés.
Elektronikus Eszközök Tanszék
(Mikrokalorimetria) q: immerziós hő
(Mikrokalorimetria) q: immerziós hő
SUGÁRZÁS TERJEDÉSE.
MFA Nyári Iskola június Ádám Andrea 1 FOTÓLITOGRÁFIA Ádám Andrea Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők: Vázsonyi Éva,
SiC szemcsék TEM vizsgálata Si hordozón Készítette: Bucz Gábor, Földes Ferenc Gimnázium Tanára: dr. Zsúdel László, Földes Ferenc.
Súrlódási jelenségek vizsgálata (Tribológia)
Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza)
Témavezető: Bíró Ferenc
BIOMIMETIKA – LÓTUSZ-EFFEKTUS
Mikroelektronikai szeletkötések Nyári Iskola Készítette: Kovács Noémi Mentor: Kárpáti Tamás 2010.
Nagyfelbontású transzmissziós elektronmikroszkópia
MFA Nyári Iskola június Horváth András Zoltán 1 MIKROFLUIDIKA Horváth András Zoltán Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők:
ZnO réteg adalékolása napelemkontaktus céljára
Hősugárzás vizsgálata integrált termoelemmel
Maszkkészítés Planár technológia Kvázi-sík felületen
Fotolitográfia a nanoelektronikában
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Monolit technika MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
Mikroelektronikába: technológiai eljárások
Többszintű Tenyéralapú Biometrikus Azonosító Rendszer
Deformálható testek mechanikája - Rezgések és hullámok
Gumi abroncs CT próba vizsgálata. Vizsgálati paraméterek I. Kereskedelmi forgalomban kapható RTG csövek [kV]160 kV225 kV320 kV450 kV Vizsgálati paraméterek.
Comenius Logo (teknőc).
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 11.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 10.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Technológia: alaplépések,
Készítette: Baricz Anita - Áprily Lajos Főgimnázium, Brassó Gréczi László – Andrássy Gyula Szakközépiskola, Miskolc Csoportvezetők:dr. Balázsi Katalin.
Nanofizika, nanotechnológia és anyagtudomány
Elektronikus Eszközök Tanszéke 2003 INTEGRÁLT MIKRORENDSZEREK MEMS = Micro- Electro- Mechanical Systems.
Elektronikus Eszközök Tanszék 1999 INTEGRÁLT MIKRORENDSZEREK MEMS = Micro- Electro- Mechanical Systems.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke Minőségbiztosítás a mikroelektronikában A monolit technika.
7. Litográfiai mintázatkialakítási eljárások. Nedves kémiai maratás.
a laboratórium egy chipen?
Nagyfeloldású Mikroszkópia Dr. Szabó István 9. Litográfia TÁMOP C-12/1/KONV projekt „Ágazati felkészítés a hazai ELI projekttel összefüggő.
Az integrált áramkörök gyártása. Mi is az az integrált áramkör?  Több, néha igen sok alapelemet tartalmazó egyetlen, nem osztható egységben elkészített.
Napelemek laboratórium 1. gyakorlat
Pt vékonyrétegek nanomintázása
Elképesztő csíkos jéghegyek.
a laboratórium egy chipen?
a laboratórium egy chipen?
Elképesztő csíkos jéghegyek.
MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
2. A számító- gépes grafika eszközei
Előadás másolata:

Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással BIOMIMETIKA Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással Orbán Károly László Andrei Muresanu Főgimnázium Témavezetők: Pardy Tamás, dr. Fürjes Péter, Fekete Zoltán

Mi is az a lótusz-effektus? Biomimetika – a „természet utánzása” Lótuszvirág (paraffinszerű anyag) Lehetőség: öntisztuló felületek Mi okozza? Mikro-nanostrukturáltság oszlopocskák viaszos réteggel borítva Hogyan? Kontaktszög Két egyensúlyi állapot: Wenzel Cassie-Baxter

 

Mesterséges megvalósítás – Laboratóriumban Szilícium szeleten vékonyréteg mikromegmunkálással Maszktervezés Litográfia 3D marás: izotróp/anizotróp Anizotróp marások: Irányszelektív marás a. NaOH+hipó 0 fok, 45 fok maszk orientáció b. DRIE – Mély Reaktív Ionmarás Szuperhidrofób felület feltétele: Strukturált, hidrofób réteg (C4F8)

Mintapreparáció Litográfiás maszk Fotolitográfia: Reziszt (~1,2 µm) 2. Oxidmarás: Tömény HF Kb. 1 µm SiO2 3. Lúgos marás / DRIE Si SiO2 Fotoreziszt

Lúgos marás, 0 fokban elforgatott maszk Fénymikroszkópos kép Elektronmikroszkópos kép Lúgos marás, 0 fokban elforgatott maszk Lúgos marás, 45 fokban elforgatott maszk DRIE – Mély Reaktív Ionmarás

Hidrofób réteg szerepe   Szilícium hidrofób réteg nélkül ~ 30-60 ° Szilícium hidrofób réteggel ~ 100-120 °

Strukturált szilícium hidrofób réteggel A mikrostrukturáltság szerepe DRIE - mart Strukturált szilícium hidrofób réteggel ~ 130-160 °

Cassie-Baxter állapot Kontaktszög – oszloptávolság összefüggése DRIE - mart Cassie-Baxter állapot

Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással BIOMIMETIKA Szuperhidrofób felületek kialakítása mikromegmunkálással Köszönöm a figyelmet! Köszönöm a MEMS Labor minden dolgozójának segítőkészségét! Orbán Károly László Andrei Muresanu Főgimnázium Témavezetők: Pardy Tamás, dr. Fürjes Péter, Fekete Zoltán