VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL

Az előadások a következő témára: "VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL"— Előadás másolata:

1 VÉKONYRÉTEG LEVÁLASZTÁSA FIZIKAI MÓDSZEREKKEL
Előadó: Patay András Mentor: Szabó Tamás

2 Rétegleválasztás módszerei
Kémiai rétegleválasztások (Chemical Vapor Deposition) Fizikai rétegleválasztások (Physical Vapor Deposition): Vákuumgőzölés (elektronsugaras, termikus) Porlasztás (DC, RF)

3 PVD eljárás feltételei
Vákuumrendszer: - Vákuumkamra - Csatlakozók - Vákuumszivattyúk Rétegleválasztó egységek: - Elektronágyú - DC porlasztó

4 Vákuumgőzölés Feladat: 1. Alumíniumréteg leválasztása vákuumgőzölő berendezés segítségével 2. A növesztett réteg sűrűségének megállapítása

5 A feladat lépései Szilícium-szelet megjelölése
Szilícium szelet tömegének mérése Alumínium réteg növesztése A növesztett réteg tömegének meghatározása (kémiai laborban lépcsőmarás) A növesztett réteg vastagágának lemérése Alpha-steppel Si-szelet felszínének kiszámítása A növesztett réteg sűrűségének kiszámítása

6 Eredmények ρ = m / V = 1,6217 g/cm3 Leválasztott tömeg: m = 0,00417g
Si szelet felszíne: A = 77,77741 cm2 Rétegvastagság: d = 330,6 nm Számított térfogat: V = A × d = 0, cm3 Számított sűrűség: ρ = m / V = 1,6217 g/cm3

7

8

9 Porlasztás Feladat: Titánréteg növesztése katódporlasztással „lift-off”-os szeletre, majd a réteg vastagságának lemérése, kiépülési sebesség meghatározása. Feladat célja: A mérés után meghatározható, hogy az azonos paraméterek mellett (teljesítmény, végvákuum, gáznyomás, szeletforgatási sebesség), mennyi idő szükséges egy általunk választott rétegvastagság eléréséhez.

10 Adatok Paraméterek: - Teljesítmény: 30% (463 V, 2,7 A) - Végvákuum: 4×10-6 mbar - Gáznyomás: 30 sccm (Ar) - Szeletforgatási sebesség: 60 % - Előporlasztás: 1×3 perc - Porlasztás időtartama: 2×2 perc Ti-szelet vastagsága: d = 90 nm Leválasztási sebesség: 22,5 nm/perc Szükséges idő 200 nm vastagság eléréséhez: 8 perc 53 másodperc

11 Köszönöm a figyelmet!