MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306

Slides:



Advertisements
Hasonló előadás
Tamás Kincső, OSZK, Analitikus Feldolgozó Osztály, osztályvezető A részdokumentumok szolgáltatása az ELDORADO-ban ELDORADO konferencia a partnerkönyvtárakkal.
Advertisements


Kamarai prezentáció sablon
Erőállóképesség mérése Találjanak teszteket az irodalomban
Mellár János 5. óra Március 12. v
Elektromos mennyiségek mérése
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
A félvezető dióda (2. rész)
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke A termikus tesztelés Székely Vladimír.
MOS integrált áramkörök alkatelemei
Elektronikus eszközök BME EET 1.0. Elektronikus eszközök, és alkatrészek Osztályozás: passzív: adott frekvenciatartományban a leadott „jel” teljesítmény.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 18.
Utófeszített vasbeton lemez statikai számítása Részletes számítás
A tételek eljuttatása az iskolákba
Elektronikai Áramkörök Tervezése és Megvalósítása
Elektronikai Áramkörök Tervezése és Megvalósítása
Elektronikai Áramkörök Tervezése és Megvalósítása
MIKROELEKTRONIKA 6. A p-n átmenet kialakítása, típusai és alkalmazásai
Védőgázas hegesztések
Szerkezeti elemek teherbírásvizsgálata összetett terhelés esetén:
DRAGON BALL GT dbzgtlink féle változat! Illesztett, ráégetett, sárga felirattal! Japan és Angol Navigáláshoz használd a bal oldali léptető elemeket ! Verzio.
Mikroelektronikaéstechnológia Bevezetõ elõadás Villamosmérnöki Szak, III. Évfolyam.
szakmérnök hallgatók számára
Az LPQI rész a Partner Az LPQI-VES társfinanszírozója: Dr. Dán András Az MTA doktora, BME VET Meddőenergia kompenzálás elmélete és alkalmazása.
A 741-es műveleti erősítő belső kapcsolása
2007. május 22. Debrecen Digitalizálás és elektronikus hozzáférés 1 DEA: a Debreceni Egyetem elektronikus Archívuma Karácsony Gyöngyi DE Egyetemi és Nemzeti.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke A termikus tesztelés Székely Vladimír.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke Integrált mikrorendszerek II. MEMS = Micro-Electro-
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke Az elektrosztatikus mozgatás Székely Vladimír Mizsei.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke IC layout tervek tesztelése.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke IC layout tervek tesztelése.
Bipoláris integrált áramkörök alapelemei Elektronika I. BME Elektronikus Eszközök Tanszéke Mizsei János 2004.március.
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Integrált mikrorendszerek:
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Bipoláris technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
A bipoláris tranzisztor I.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 MOS áramkörök: CMOS áramkörök,
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A bipoláris IC technológia.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A bipoláris tranzisztor.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Integrált áramkörök: áttekintés,
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 Félvezető fizikai alapok.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 2. zárthelyi megoldásai december 2.
A klinikai transzfúziós tevékenység Ápolás szakmai ellenőrzése
QualcoDuna interkalibráció Talaj- és levegövizsgálati körmérések évi értékelése (2007.) Dr. Biliczkiné Gaál Piroska VITUKI Kht. Minőségbiztosítási és Ellenőrzési.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 11.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke 1. zárthelyi megoldásai október 10.
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
1. Melyik jármű haladhat tovább elsőként az ábrán látható forgalmi helyzetben? a) A "V" jelű villamos. b) Az "M" jelű munkagép. c) Az "R" jelű rendőrségi.
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A pn átmenet működése: Sztatikus.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke Zárthelyi előkészítés október 10.
A KÖVETKEZŐKBEN SZÁMOZOTT KÉRDÉSEKET VAGY KÉPEKET LÁT SZÁMOZOTT KÉPLETEKKEL. ÍRJA A SZÁMOZOTT KÉRDÉSRE ADOTT VÁLASZT, VAGY A SZÁMOZOTT KÉPLET NEVÉT A VÁLASZÍV.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA /2009 I. félév Követlemények.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA /2012 I. félév Követelmények.
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA /2013 I. félév Követelmények.
A félvezető eszközök termikus tulajdonságai
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke MIKROELEKTRONIKA, VIEEA /2011 I. félév Követelmények.
MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306
Budapesti Műszaki és Gazdaságtudományi Egyetem Elektronikus Eszközök Tanszéke Termikus hatások analóg integrált áramkörökben Esettanulmány:
MOS technológia Mizsei János Hodossy Sándor BME-EET
A félvezető eszközök termikus tulajdonságai
Előadás másolata:

MIKROELEKTRONIKA, VIEEA306 A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet http://www.eet.bme.hu/~poppe/miel/hu/09-bipIC-2014.pptx

Bipoláris IC technológia 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC technológia lépései Minden adalékolási lépéshez tartozik egy ablaknyitás az oxidban, ezt nem ábrázoljuk külön. Az ilyen ablaknyitáshoz maszk kell. fémezés mintázat M fémréteg leválasztása kontaktus ablakok M n+ emitter diffúzió M p+ bázis diffúzió M p szigetelés diffúzió M n epi réteg leválasztása n+ emitter p+ bázis n kollektor n+ eltemetett réteg M n+ eltemetett réteg p szubsztrát 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Structure of bipolar IC transistors burried layer collector n type island p-Si substrate base contact emitter base collector contact 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps 1. n+ burried layer doping (for collector regions) 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps n 2. n epi layer growth for the active islands n+ 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps n p 3. p type isolation doping (deep diffusion through the n epi layer) M n+ p 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps p+ n p 4. p+ base diffusion M n+ p 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps n p p+ 5. n+ emitter diffusion (also for better collector contact) M n+ 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps p+ 6. contact window opening n+ p+ n p 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps 6. contact window opening M n+ p+ n p 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps 7. metallization pattern n+ p+ n p 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Major process steps 7. metallization pattern M n+ Masks needed for a bipolar process: burried layer (n+) isolation (deep p through n epi) base (p) emitter (n+) contact windows metallization pattern The process is optimized for creating good NPN transistors 17-10-2014 Microelectronics BSc course, Element set in bipolar IC-s © András Poppe & Vladimír Székely, BME-EET 2008-2014

Lehetséges alkatrészek A technológiát (vertikális) npn tranzisztorra optimalizálják Bizonyos részek elhagyásával, vagy trükkös fémezéssel más alkatrészek is kialakíthatóak különleges npn tranzisztorok ellenállások dióda pnp tranzisztor Többlet maszkkal és többlet technológiai lépéssel: vékonyréteg kapacitás 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC technológiával megvalósítható alkatrészek Ellenállás bázis diffúzióval Emitter diffúzióval megnyomott ellenállás PNP tranzisztorok Vékonyréteg kapacitás Egy OpAmp layoutja 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

A bipoláris integrált áramkörök alapelemei NPN tranzisztor Bázis diffúziós ellenállás Megnyomott ellenállás 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Egy bipoláris IC részlete pásztázó elektronmikroszkóppal leképezve Nagy meander alakú ellenállás 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek a szigetelés-diffúzió 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek npn (vertikális) tranzisztor 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Az npn IC tranzisztor szerkezete 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek npn tranzisztorok Technológia: az npn (vertikális) tranzisztorokra optimálva Hatásos emitter él a báziskontaktus oldalán (I=2 A/cm), EB letörés: 5-6 V, CB letörés 40-50 V, fT=800-900 MHz 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Nagyáramú npn tranzisztor 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek npn tranzisztorok Hatásos emitter él a báziskontaktus oldalán (I=2 A/cm) 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek npn tranzisztorok változatai Helytakarékos megoldások: két tranzisztor közös zsebben, multiemitteres tranzisztor 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Bázisdiffúziós ellenállás R – négyzetes ellenállás 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Bázisdiffúziós ellenállások Egy szigetben több ellenállás is lehet. A sziget +UCC -re kötendő! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Bázisdiffúziós ellenállás, meander alakban hajtogatva Pontosság Paraziták 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Mi kell ahhoz, hogy két ellenállás (alkatrész) NAGYON egyforma legyen? azonos rajzolat azonos pozíció közel egymáshoz NEM minimális méret azonos hőmérséklet layout termikus szimulációja 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek "megnyomott" bázisdiffúziós ellenállás 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek "megnyomott" bázisdiffúziós ellenállás értéke néhányszor 100 kW (kb.) emitter diffúzió bázisdiffúzió Enyhén nemlineáris Feszültsége korlátozott 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek "zömök" emitterdiffúziós ellenállás (vezeték keresztezés) értéke kb. 2 W Emitter diffúzió Fémezés 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Laterális pnp tranzisztor 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Laterális pnp tranzisztor Több is lehet egy zsebben! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Laterális "szektor" pnp tranzisztorok Önmagában áramtükör! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Laterális "szektor" pnp tranzisztorok Köralakúak is léteznek! I I I 3I 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Vertikális pnp tranzisztor n+ eltemetett réteg ellenütemű erősítő (B) 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek A "vékonyréteg" kondenzátor dox: 0,1 m (50 V) Cfajl: 3-400pF/mm2 A jósági tényező javítása A parazita kapacitás hatástalanítása 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Vékonyréteg (fém-SiO2-n+) kondenzátor egy műveleti erősítőben Értéke: kb. 30pF Cfajl: 3-400pF/mm2 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek Vékonyréteg (fém-SiO2-n+) kondenzátor egy műveleti erősítőben Hasonlítsuk össze a kondenzátor és egy tranzisztor méretét! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Bipoláris IC alkatrészek A pn átmenet mint kondenzátor A tértöltési kapacitás kihasználható, de feszültségfüggő (nemlineáris) nem kaphat nyitó feszültséget ! EB: 1000pF/mm2 (5 V-ig ! ) CB: 150pF/mm2 (~50 V-ig ) 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Műveleti erősítő layout, alkatrész elrendezés Szimmetria, hogy a termikus hatások a lehető legegyformábbak legyenek T1, T2: NPN, bemeneti differenciálerősítő T3, T4: PNP, laterális T5, T6, T7: NPN T10, T11, T13: PNP laterális tranzisztorok D1, D2: diódák T16-17: NPN darlington T19-21: egy zsebben 3 NPN tranzisztor R1, R6: nagy ellenállások R7: megnyomott ellenállás R8, R9: kis ellenállások T22: PNP vertikális T23: NPN vertikális (nagyáramúak) 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Kimeneti tranzisztorok Az ideális elrendezés Teljesítmény végfok tranzisztorok távol a differenciális pár alkotta bemenettől Szimmetrikus elrendezése - common centroid: x és y irányú technológiai szórásra is érzéketlen azonos izotermák Bemeneti diff. erősítő (common centroid) Kimeneti tranzisztorok 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Termikus hatások analóg IC-knél: bipoláris OpAmp A termikus impedancia fogalma Termikus visszacsatolás egy OpAmp-nál A layout hatása a termikus visszacsatolásra 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

A termikus impedancia fogalma A kapu impedancia T1 hőmérséklet növekmény A transzfer impedancia Zth () komplex értékű 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Termikus visszacsatolás – opamp-ban Stacionárius állapot, VOUT > 0   -2 mV/oC 2014-10-18 2013-10-25 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Termikus visszacsatolás – opamp-ban Stacionárius üzem Hatás a nyílt hurkú transzfer karakterisztikán 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Termikus visszacsatolás – opamp-ban A vizsgálat módszere: Mind méréseket, mind szimulációkat végeztünk. Egy kereskedelmi forgalomban lévő közismert típust vizsgáltunk, ez a A741 müveleti erősítő. Mind a stacionárius, mind a dinamikus viselkedést mértük és szimuláltuk. Több, azonos típusú, de különböző gyártótól származó egyedet vizsgáltunk. A különböző dizájnok ugyanazon áramkört realizálták, de az alkatrészek elrendezése eltérő volt. Az alkatrész elrendezést, az IC-k layout-ját a felbontott tokok mikroszkópi képe alapján derítettük fel. 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

A modellezés részletei A vizsgált áramkör a A741 müveleti erősítő A fizikai réteg-szerkezet Az erősítő kapcsolása A sárgával jelölt tranzisztorokat elektro-termikus modellel írtuk le 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

A layout-ok "visszafejtése" Layout "A" 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

A layout-ok "visszafejtése" Layout "B" 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Nyílthurkú transzfer karakterisztika (mérés és szimuláció) Layout "A" 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Nyílthurkú transzfer karakterisztika (mérés és szimuláció) Layout "B" 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Vizsgálatok a frekvencia tartományban Termikus hatások a kimeneti impedanciában 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Vizsgálatok a frekvencia tartományban Layout "A", a felső tranzisztor működik, G=104 Ez a hatás a terheletlen opamp-nál is fellép! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014

Ezek az IC-k csupán az alkatrészek elhelyezésében térnek el! Vizsgálatok a frekvencia tartományban "A" "B" Ezek az IC-k csupán az alkatrészek elhelyezésében térnek el! 2014-10-18 Mikroelektronika - A bipoláris IC technológia és lehetséges elemkészlet © Poppe András & Székely Vladimír, BME-EET 2008-2014