Az előadás letöltése folymat van. Kérjük, várjon

Az előadás letöltése folymat van. Kérjük, várjon

1 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 FOTOLITOGRÁFIA Ábrakialakítás vékony SiO 2 rétegben Nemcsok Anna Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza) Témavezető:

Hasonló előadás


Az előadások a következő témára: "1 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 FOTOLITOGRÁFIA Ábrakialakítás vékony SiO 2 rétegben Nemcsok Anna Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza) Témavezető:"— Előadás másolata:

1 1 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 FOTOLITOGRÁFIA Ábrakialakítás vékony SiO 2 rétegben Nemcsok Anna Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza) Témavezető: Csikósné Dr Pap Andrea Edit

2 2 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 MEMS = Micro-Electro-Mechanical Systems Si felületi és tömbi megmunkálása nagy tisztaságú térben 3D eszközök kialakítása pl. gázérzékelők, erőmérők, tapintás érzékelő, fluidikai eszközök, stb. rendkívül sok technológiai lépés, eljárás egymás utáni alkalmazása pl. rétegleválasztás, fotolitográfia, nedves és száraz kémiai marások, ion- implantálás, magas hőmérsékletű oxidáció, stb.

3 3 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia Funkciói ábrakészítés, mintázat átvitel rétegekre védelem Elvárások méret és alakzat megtartása reprodukálhatóság Célkitűzés fotolitográfiai lépések megismerése ábra kialakítása vékony (100 nm) SiO 2 rétegben

4 4 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 1. Si egykristály szelet tisztítása 20 perc forró HNO 3 fürdőben ioncserélt vízben öblítés szárítás 2. Termikus oxid kialakítása 45 perc 1100 °C O 2 gázban Kaszkád mosó Csőkemence

5 5 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 3. Szárítás (dehidratálás) 30 perc 300 °C levegőben 4. Fényérzékeny lakk felvitele HMDS (hexametil-diszilanáz) fotolakk (szerves) Légkeveréses kályha Spin coater

6 6 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 5. Lakk szárítása 30 perc 95 °C levegőben 6. Maszk készítése általában Cr rétegben, üvegen most vetítő fóliára nyomtatva

7 7 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 7. Ábra kialakítása a lakkban pozitív fotolakk (fényre oldhatóvá válik) Hg gőz lámpa, 405 nm hullámhossz kontakt litográfia Pozícionálás Levilágítás

8 8 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 8. Exponált szeleteken ábra előhívása mosása szárítása Hengeres plazmamaró 9. Lakkban kialakított ábra beégetése 30 perc 110 °C levegőben 10. Felület hidrofilizálása O 2 plazma (flash) felület nedvesítésének elősegítése

9 9 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Fotolitográfia lépései 10. Ábra előhívása a SiO 2 rétegben (oxid marás) NH 4 F-al pufferolt HF tartalmú oldat pH = 4.3 marási sebesség 24 °C –on 110 nm/perc 11. Lakk eltávolítása tömény HNO 3 (90 m/m%, füstölgő) 12. Mosás 13. Szárítás

10 10 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 Pozícionálás Hengeres plazmamaró Oxidos Si szelet Lakkozott szeletek Maszkok Lakkba beégetett ábra Oxid marás után Vékony oxidban kialakított kész ábrák

11 11 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 KÖSZÖNÖM A FIGYELMET! Köszönet az MFA Nyári Iskola szervezőinek a lehetőségért, az MFA Nyári Iskola szervezőinek a lehetőségért, a MEMS Laboratórium munkatársainak a fogadtatásért. a MEMS Laboratórium munkatársainak a fogadtatásért. Külön köszönöm Payer Károlyné Margitkának a lelkes és mindenre kiterjedő segítségét.


Letölteni ppt "1 Fotolitográfia MFA Nyári Iskola 2013 FOTOLITOGRÁFIA Ábrakialakítás vékony SiO 2 rétegben Nemcsok Anna Móra Ferenc Gimnázium (Kiskunfélegyháza) Témavezető:"

Hasonló előadás


Google Hirdetések