Előadást letölteni
Az előadás letöltése folymat van. Kérjük, várjon
1
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 1 FOTÓLITOGRÁFIA Ádám Andrea Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők: Vázsonyi Éva, Erős Magdolna
2
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 2 A fotólitográfia : Foto = fényLito = kőGráfia = írás A szilícium szeletre felvitt vékonyrétegek (SiO 2, Si 3 N 4, SiN x, Al, stb…) megmunkálásának technológiája.
3
3 Az ábrakészítés folyamatai 1.Szelettisztítás 2.Dehidratálás (300 o C vagy 900 o C) 3.Adhézió növelő réteg felvitele 4.Fotoreziszt felvitele 5.Szárítás (hotplate)
4
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 4 Az ábrakészítés folyamatai 6. Megvilágítás 7. Előhívás 8. Beégetés
5
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 5 5 m-es szélességű vonal leképezésének vizsgálata
6
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 6 5 m-es szélességű vonal leképezésének vizsgálata 4,8 m Alulvilágított Optimális Széles időtartomány áll rendelkezésünkre, ahol pontos a leképezés.
7
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 7 5 m-es szélességű vonal leképezésének vizsgálata Adott tartományban a lakkvastagság nem befolyásolja a leképezés pontosságát.
8
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 8 5 m-es ábra esetén az eltérés 0,1 m, ami elhanyagolható. Megfelelő: a maszkillesztő berendezés optikai rendszere a szilícium és a maszk összeszorítása kontakt állásban a lakk minősége
9
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 9 Hajrá csapat!
10
MFA Nyári Iskola - 2009. június 22-26. - Ádám Andrea 10 Köszönöm a figyelmet! Készítette: Ádám Andrea Tamási Áron Elméleti Líceum, Székelyudvarhely Témavezetők: Vázsonyi Éva, Erős Magdolna
Hasonló előadás
